Dana 9. rujna po lokalnom vremenu, izvršni direktor Intela Kissinger najavio je da će uložiti 20 milijardi dolara u izgradnju nove velike tvornice pločica u američkom Ohiju.Ovo je dio Intelove IDM 2.0 strategije.Cijeli plan ulaganja iznosi čak 100 milijardi dolara.Očekuje se da će nova tvornica biti masovno proizvedena 2025. godine. Tada će proces “1,8 nm” vratiti Intel na vodeću poziciju poluvodiča.
Otkako je u veljači prošle godine postao izvršni direktor Intela, Kissinger je snažno promovirao izgradnju tvornica u Sjedinjenim Državama i diljem svijeta, od čega je najmanje 40 milijardi dolara uloženo u SAD.Prošle je godine u Arizoni uložio 20 milijardi dolara za izgradnju tvornice vafla.Ovaj put je također uložio 20 milijardi američkih dolara u Ohio, a također je izgradio novu tvornicu za brtvljenje i ispitivanje u Novom Meksiku.
Intel ulaže još 20 milijardi dolara u izgradnju dvije tvornice čipova.Vraća se kralj “1.8nm” tehnologije
Tvornica Intel također je velika tvornica poluvodičkih čipova novoizgrađena u Sjedinjenim Državama nakon usvajanja zakona o subvencijama za čipove od 52,8 milijardi američkih dolara.Zbog toga je ceremoniji otvaranja nazočio i predsjednik Sjedinjenih Država, kao i guverner Ohia i drugi visoki dužnosnici lokalnih odjela.
Intel ulaže još 20 milijardi dolara u izgradnju dvije tvornice čipova.Vraća se kralj “1.8nm” tehnologije
Intelova baza za proizvodnju čipova sastojat će se od dvije tvornice pločica, koje mogu primiti do osam tvornica i pratećih ekoloških sustava podrške.Prostire se na površini od gotovo 1000 hektara, odnosno 4 četvorna kilometra.To će stvoriti 3000 visoko plaćenih radnih mjesta, 7000 radnih mjesta u građevinarstvu i desetke tisuća poslova u kooperaciji lanca opskrbe.
Očekuje se da će ove dvije tvornice pločica masovno proizvoditi 2025. Intel nije izričito spomenuo razinu procesa u tvornici, ali Intel je ranije rekao da će ovladati procesom 5-generacije CPU-a u roku od 4 godine, te da će masovno proizvoditi 20a i 18a dvije generacije procesa 2024. godine. Stoga bi ovdašnja tvornica također trebala proizvoditi proces 18a do tog vremena.
20a i 18a su prvi procesi čipova na svijetu koji su dosegli EMI razinu, što je ekvivalentno 2nm i 1,8nm procesima prijatelja.Također će lansirati dvije Intelove tehnologije crne tehnologije, ribbon FET i powervia.
Prema Intelu, ribbonfet je Intelova implementacija vrata oko tranzistora.To će postati prva potpuno nova arhitektura tranzistora otkako je tvrtka prvi put lansirala FinFET 2011. Ova tehnologija ubrzava brzinu prebacivanja tranzistora i postiže istu pogonsku struju kao struktura s više rebara, ali zauzima manje prostora.
Powervia je Intelova jedinstvena i prva mreža povratnog prijenosa energije u industriji, koja optimizira prijenos signala eliminirajući potrebu za napajanjem i
Vrijeme objave: 12. rujna 2022